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銅靶 (Cu)
索取該產(chǎn)品報(bào)價(jià)
銅靶通過真空濺射形成膜層，廣泛應(yīng)用于觸摸屏、半導(dǎo)體、傳感器、電路器件和裝飾品等行業(yè)的器件鍍膜。
元素符號(hào)
:
Cu
純度
:
4N+
形狀
:
平面靶
;
旋轉(zhuǎn)靶
外觀
:
紅銅色金屬
典型密度
:
8.57g/cm3
常規(guī)尺寸
:
平面靶
: D500mm
旋轉(zhuǎn)靶
: L4000mm
其它尺寸可定制
相關(guān)產(chǎn)品
鋁靶 (Al)
鎳靶 (Ni)
鉭靶 (Ta)
鈦靶 (Ti)
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